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瑞澤氣體凈化湖北有限公司
電源方式 | 交流電 | 額定電壓 | 380v |
---|---|---|---|
額定功率 | 4500w | 額定頻率 | 50Hz |
貨號 | RZ-TYAC-20N |
湖北瑞澤氬氣純化裝置,本設備具有體積小,操作簡便,能耗小,安全可靠的特點。無需頻繁再生及再生無須加氫的特點。
湖北瑞澤氬氣純化裝置
氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣體,為了提高硅晶體的質量,如何選用較高純度的氬氣,是制作硅晶體的一個議題。通過對本裝置的使用,氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時,水分也小于1ppm時,制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,這樣就提高了單晶的使用壽命并能達到要求,贏得客戶的滿意和市場的需求。
由于一般液氬汽化后未經過純化處理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有時氣體供應商提供的氬氣超過了此范圍,使用氬氣的客戶不知道其質量,所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何,只要經過純化裝置的處理后,進入拉晶爐的氬氣,純度始終是恒定的。
一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,這樣穩定的氬氣對生產晶體的質量是有保證的。
*種
直接脫氧法。就是使用活性金屬與氬氣中的氧氣進行反應,消化掉氬氣中的氧氣,從而達到脫氧的目的,經過分子篩吸收掉氬氣中的水份,使氬氣的含水量小于1ppm。
第二種
是采用吸氣劑。在一定溫度下,吸氣劑可吸收氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等氣體經吸收處理后,氬氣的純度可達到6個九,這種保護氣體更適用于制作高純度的半導體的單晶硅。
利用吸氣劑純化后氬氣的純度:
O2≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
CO+CO2≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水份≤1ppm
*種方法設備投資小,設備中脫氧劑的使用壽命一般大于四年。
第二種方法設備純化純度高但投資相對較大,吸氣劑使用壽命為兩年。
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還可根據客戶要求,配備分析儀在線時時檢測設備中氣體純度。
三、氬氣用途
高純氬氣用于焊接、不銹鋼制造、冶煉,還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣。
主要用途:歡迎新老用戶選擇我公司產品:氬氣凈化機,氬氣凈化器,高純氬氣凈化,高純氬氣凈化設備,高純氬氣純化設備,高純氬氣純化裝置,YAC系列氬氣凈化設備,全自動氬氣純化設備,大型氬氣凈化設備,硅材料行業用氬氣凈化設備,硅材料用除氧、除水氬氣純化裝置,氣站氬氣凈化設備,氣站氬氣純化器,氣站用高純氬設備,單晶硅行業用氬氣除氧、干燥設備,多晶硅行業用氬氣除氧、干燥設備,高純氬氣提純設備,氬氣提純機,高純氬氣過濾器、?。
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