最近幾年超大規模集成電路的生產有了快速發展,對超純水的水質提出了更高的要求,超純水中所含雜質的允許含量越來越低,同時需要控制的雜質種類也越來越多。為了有效去除各種雜質,需要各種處理手段的綜合運用。
通常我們超純水系統分為三部分:預處理,初級處理和拋光精制處理。
1.預處理系統通常由過濾、殺菌和防氧化工藝組成;
2.初步處理系統主要由反滲透、離子交換器、膜脫氣、紫外設備等組成。
3.精制處理部分通常包括TOCUv、拋光混床、膜脫氣以及終端超濾裝置。
最近幾年超大規模集成電路的生產有了快速發展,對超純水的水質提出了更高的要求,超純水中所含雜質的允許含量越來越低,同時需要控制的雜質種類也越來越多。為了有效去除各種雜質,需要各種處理手段的綜合運用。
通常我們超純水系統分為三部分:預處理,初級處理和拋光精制處理。
1.預處理系統通常由過濾、殺菌和防氧化工藝組成;
2.初步處理系統主要由反滲透、離子交換器、膜脫氣、紫外設備等組成。
3.精制處理部分通常包括TOCUv、拋光混床、膜脫氣以及終端超濾裝置。
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