設備介紹
激光共聚焦顯微鏡脫離了傳統光學顯微鏡的場光源和局部平面成像模式, 采用激光束作光源,激光束經照明針孔,經由分光鏡反射至物鏡,并聚焦于樣品上,對標本焦平面上每一點進行掃描。組織樣品中如果有可被激發的熒光物質,受到激發后發出的熒光經原來入射光路直接反向回到分光鏡,通過探測針孔時先聚焦,聚焦后的光被光電倍增管(PMT)探測收集,并將信號輸送到計算機,處理后在計算機顯示器上顯示圖像。在這個光路中,只有在焦平面的光才能穿過探測針孔,焦平面以外區域射來的光線在探測小孔平面是離焦的,不能通過小孔。因此,非觀察點的背景呈黑色,反差增加,成像清晰。由于照明針孔與探測針孔相對于物鏡焦平面是共軛的,焦平面上的點同時聚焦于照明針孔與探測針孔,焦平面以外的點不會在探測針孔處成像,即共聚焦。
儀器型號
奧林巴斯FV3000
技術參數
- 高分辨率掃描單元掃描分辨率4096*4096,掃描速度:512X512分辨率16幀。
- 光譜掃描精度2nm
- 激光器405 nm,488 nm,561 nm,640 nm
- 全光譜最小調節步進1nm
- 熒光附件130W 長壽命熒光光源,含UV、B、G激發濾色鏡。
案例展示
應用范圍
激光共聚焦掃描顯微鏡,共聚焦圖包括綜合幾何,功能性和粗糙度研究——以及創建詳細的表面分析報告。用于*的表面紋理分析,輪廓分析,顆粒與粒子分析,3D傅立葉分析,表面進化分析和統計。