英國Emitech全自動磁控離子濺射儀K550X具有旋轉樣品臺，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用。預選擇參數及全自動控制使得精確鍍層及重復厚度沉積更為方便。磁電管靶使用低電壓，可提高效率，K550X能得到非常精細的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺。

腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。

儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供的性能價格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。

功能集中在儀器面板上及即插即用電子學設計，的“up-time”，這些用戶友好設計滿足了不同學科的用戶需求。

濺射參數可被預先設置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設置，它就不需要再調節。濺射頭互鎖，系統可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。

英國Emitech全自動磁控離子濺射儀K550X的特點

1、全自動控制

2、低電壓濺射

3、高分辨率精細涂層

(金顆粒可達2 nm)

4、具有傾斜裝置的特殊旋轉臺

5、均勻厚度沉積

(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃)

6、165 mm(6英寸)腔室

優點：

● 易操作

● 無需冷卻樣品臺

● 精確的再次涂層

● 適合各種樣品

● 膜厚度重復性好

● 容易裝載或卸載樣品

● 可預設沉積厚度

英國Emitech全自動磁控離子濺射儀K550X的技術參數

1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤

2、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H

3、安全鐘罩:聚碳酸酯

4、靶：60mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面)

5、樣品臺直徑為50mm，靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉臺

6、真空范圍:ATM-1x10-2 mbar

7、濺射電流:0-50mA

8、沉積速率:0-25nm/分

9、濺射定時: 0-4 分鐘

10、預設置針閥:控制氬

11、電源:230 伏 50Hz